同兴达的光刻机是多少纳米

同兴达的光刻机是多少纳米？

100纳米以下。上海微电子将中国首台2.5D/3D先进封装光刻机交付给客户-昆山同兴达公司。上海微电子推出了SSB520型大视场高分辨率先进封装光刻机，套刻精度还可以通过升级运动、量测和控制系统等提升至小于 100纳米，并且长期稳定性能也十分优越。另外要说一点，通常说的光刻机指的是前道光刻机，而这里说的是后道光刻机，对芯片加载引脚电路和外壳的光刻机。

90nm。

昆山同兴达首台SMEE光刻机顺利搬入仪式落幕。昆山同兴达公司成立于2021年12月，主营半导体/芯片先进封装测试相关之生产、销售及服务，是同兴达集团最年轻的子公司、集团产业新赛道。