光刻机是什么
光刻机是什么?
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);
在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
通俗易懂来讲光刻机就是个“投影仪”,把我们想要的影子投影到幕布上。
芯片那么精细,是怎么生产出来的呢?用刀刻?用水冲?都不行,因为芯片太精细了,动辄几十nm的线条,日常没有什么材料能做成这么精细的刻刀。所以我们就想了一个办法,用光线来刻,这也就是光刻机。