65nm光刻机可以生产多少nm芯片？在晶圆制造中能用到的光刻机有两种，一种是步进重复式光刻机，一种是步进扫描式光刻机，后者最为常用，步进扫描式光刻机技术的应用始于20世纪90年代，通过配置不同波长的光源，可用于不同工艺技术节点，光源波长有g线436nm，i线365nm，Krf248nm，Arf193nm，和最先进的13.5nm的EUV光源，所以说光刻机分类中没有所谓的65nm光刻机！
