国产光刻机的真实水平

国产光刻机的真实水平？

目前国内光刻机仍然是处于90nm水平，蚀刻机达到了5nm水平。

2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。但是这仅限于实验室阶段，实现商用还是需要一定时间。

国产光刻机相比国外的光刻机落后还是比较大，据悉我国的光刻机技目前推进到28纳米，而荷兰光刻机己经到2纳米，随着中科技这几年迅速发展会快速缩小差距。

现在国产光刻机的水平已经进入了世界先进行列，我们购进了一些芯片和引进了一些先进生产技术，等于弯道超车，已经进入了光刻机的前十名，